上海軒儀：淺談等離子清洗機(jī)的清洗原理

等離子清洗原理;

給氣態(tài)物質(zhì)更多的能量，比如加熱，將會(huì)形成等離子體。當(dāng)?shù)竭_(dá)等離子狀態(tài)時(shí)，氣態(tài)分子裂變成了許許多多的高度活躍的粒子。這些裂變不是永久的，一旦用于形成等離子體的能量消失，各類(lèi)粒子重新結(jié)合，形成原來(lái)的氣體分子。

與濕法清洗不同，等離子清洗的機(jī)理是依靠處于“等離子態(tài)”的物質(zhì)的“活化作用”達(dá)到去除物體表面污漬的目的。

從目前各類(lèi)清洗方法來(lái)看，等離子體清洗也是所有清洗方法中最為徹底的剝離式的清洗方式。等離子清洗一般是利用激光、微波、電暈放電、熱電離、弧光放電等多種方式將氣體激發(fā)成等離子狀態(tài)。

在等離子清洗應(yīng)用中，主要是利用低壓氣體輝光等離子體。一些非聚合性無(wú)機(jī)氣體（Ar2、N2、H2、O2等）在高頻低壓下被激發(fā)，產(chǎn)生含有離子、激發(fā)態(tài)分子，自由基等多種活性粒子。

一般在等離子清洗中，可把活化氣體分為兩類(lèi)，一類(lèi)為惰性氣體的等離子體（如Ar2、N2等）；另一類(lèi)為反應(yīng)性氣體的等離子體（如O2、H2等）。

這些活性粒子能與表面材料發(fā)生反應(yīng)，其反應(yīng)過(guò)程如下：電離——?dú)怏w分子——激發(fā)——激發(fā)態(tài)分子——清洗——活化表面等離子產(chǎn)生的原理如下從上圖可以看出，給一組電極施以射頻電壓（頻率約為幾十兆赫茲），電極之間形成高頻交變電場(chǎng)，區(qū)域內(nèi)氣體在交變電場(chǎng)的激蕩下，產(chǎn)生等離子體。

活性等離子對(duì)被清洗物進(jìn)行表面物理轟擊與化學(xué)反應(yīng)雙重作用，使被清洗物表面物質(zhì)變成粒子和氣態(tài)物質(zhì)，經(jīng)過(guò)抽真空排出，而達(dá)到清洗目的。

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